为深化光电学科前沿交流，拓宽师生科研视野，助力大家把握微纳光刻领域最新发展趋势，6月18日下午，浙江大学光电科学与工程学院匡翠方教授应邀到访欧美无码 ，在集贤楼524会议室作题为《高通量超分辨直写技术与系统》的学术讲座。本次讲座由物理与光电工程学院院长张丁可教授主持，学院相关专业教师、研究生到场聆听学习，并开展研讨交流。

讲座伊始，匡翠方教授以光刻技术的百年发展脉络为切入点，系统梳理了从传统掩膜光刻到无掩膜激光直写的技术演进路径，清晰阐释了两类技术的核心差异与适用场景。他重点围绕超分辨激光直写技术展开分享，结合团队多年的一线研究案例，详细拆解了“光学-化学联合调控”提升直写分辨率的核心机制，以及多通道并行直写技术在微纳器件快速制备中的落地应用路径，为在场师生呈现了微纳3D打印领域的前沿突破方向。

互动交流环节，在场师生围绕打印效率瓶颈、设备成本控制、科研成果产业化落地等实际问题踊跃提问，匡翠方教授结合自身多年科研与成果转化的实操经验逐一细致解答，同时分享了自己在基础研究攻关、产学研协同推进过程中的心得体会，鼓励在场师生瞄准产业真实需求开展原创性研究。

本次学术讲座进一步加强了我校与浙江大学在光电学科领域的交流，为两校后续交流合作奠定了扎实基础，学院将以本次交流为契机，持续引入领域顶尖学术资源，搭建更高质量的学术交流平台，以前沿学术交流反哺学科建设，全面提升光电领域人才培养的核心质量。

据悉，匡翠方教授系国家杰出青年基金获得者，极端光学技术与仪器全国重点实验室副主任。长期深耕超分辨显微成像、超分辨光刻技术研究。主持国家自然科学基金重大仪器专项等多项国家级重点科研项目，累计发表国内外高水平学术论文200余篇。荣获2019年度王大珩光学奖中青年科技人员光学奖；科研成果先后斩获2019年国家技术发明二等奖（排名第二）、2024年浙江省技术发明一等奖、2024年中国光学学会技术发明特等奖。

一审一校：刘锡  二审二校：黄雅婷  三审三校：杨云